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​华裔工程师向中国走私管制晶片案开审

  洛杉矶华裔电气工程师施义池(Yi-Chi Shih,音译),被控向中国出口受管制的敏感技术和晶片案,14日在洛杉矶联邦法院审理。

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        洛杉矶检察官办公室发言人Thom Mrozek表示,当天该案已进入审理阶段,开始陪审团筛选流程。

  施义池在去年1月被联邦调查局(FBI)逮捕,起诉书显示,他有台湾和美国双重国籍。他曾担任过美国国防部承包商员工、电气工程师。该案还有另一位被告I-Shiang Shin也是电气工程师,有台湾和加拿大双重国籍。两人被控非法获取有军事用途的科技和电脑晶片,并在没有合法出口许可证下,出口给中国成都的GaStone科技公司。

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